經過科學家們的研究，單層的單晶石墨烯在不久的將來或將成為超高分辨率透射電鏡成像和光學設備的材料。

　　研究團隊將銅箔被石墨烯薄膜所覆蓋，改進了化學氣相沉積(CVD)生長方法。如此一來銅箔上的所有碳雜質就被消除。單層石墨烯薄膜上被留下了平行“褶皺”，褶皺之間的區域制造集成高性能器件。使得該器件具有很高的電子遷移率和空穴遷移率。

　　單層石墨烯，指由一層以苯環結構周期性緊密堆積的碳原子構成的一種二維碳材料。

　　石墨烯具有優異的光學、電學、力學特性，在材料學、微納加工、能源、生物醫學和藥物傳遞等方面具有重要的應用前景。

　　化學氣相沉積(CVD)生長方法

　　將單層石墨烯在Ir表面上生成，通過進一步研究可知，這種石墨烯結構可以跨越金屬臺階，連續性的和微米尺度的單層碳結構逐漸在Ir表面上形成。

　　毫米量級的單晶石墨烯是利用表面偏析的方法得到的。厘米量級的石墨烯和在多晶Ni薄膜上外延生長石墨烯是由部分學者發現的，在1000℃下加熱300納米厚的Ni 膜表面，同時在CH4氣氛中進行暴露，經過一段時間的反應后，大面積的少數層石墨烯薄膜會在金屬表面形成。

　　金屬箔的種類有赤金、銀箔、銅箔和鋁箔幾種，銅箔具有低表面氧氣特性，可以附著與各種不同基材，如金屬，絕緣材料等，擁有較寬的溫度使用范圍。主要應用于電磁屏蔽及抗靜電，將導電銅箔置于襯底面，結合金屬基材，具有優良的導通性，并提供電磁屏蔽的效果?？煞譃椋鹤哉炽~箔、雙導銅箔、單導銅箔等 。

　　電子級銅箔(純度99.7%以上，厚度5um-105um)是電子工業的基礎材料之一電子信息產業快速發展，電子級銅箔的使用量越來越大，產品廣泛應用于工業用計算器、通訊設備、QA設備、鋰離子蓄電池，民用電視機、錄像機、CD播放機、復印機、電話、冷暖空調、汽車用電子部件、游戲機等。國內外市場對電子級銅箔，尤其是高性能電子級銅箔的需求日益增加。有關專業機構預測，到2015年，中國電子級銅箔國內需求量將達到30萬噸，中國將成為世界印刷電路板和銅箔基地的最大制造地，電子級銅箔尤其是高性能箔市場看好。